• 對準工作原理片對準誤差、工件臺重復步進定位誤差（或步進和掃描誤差）、運動模型誤差、對準標記制作誤差、激光干涉儀的測量誤差、機器的安裝誤差、掩模版預對準誤差、硅片...2018-07-27 09:05:43
• 芯片光刻的流程詳解（上）是把掩膜版上的Y軸與晶園上的平邊成90?，如圖所示。接下來的掩膜版都用對準標記與上一層帶有圖形的掩膜對準。對準標記是一個特殊的圖形（見圖），分布在每...2018-07-12 08:36:24
• 光刻技術圖形轉移工藝二：光刻材料及設備????2、對準????對準指光刻掩膜版與光刻機之間的對準，二者均刻有對準標記，使標記對準即可達到光刻掩膜版與光刻機的對準。5.顯影顯影就是用顯影液...2018-06-07 08:41:19
• Nikon光刻機對準機制和標記系統研究較大的差別，有自己的特色。在Nikon系列光刻機的對準方案中，用到三類對準標記:對版標記、硅片粗對標記和硅片精對標記。此外，還有與各類標記相對應的傳...2018-01-31 09:33:17
• 光刻基本操作步驟”）HOW?MANY?WAFERS?=?_1_待片子上到載片臺后，手動對準標記進行曝光，顯影，檢驗，確認無誤后，對硅片繼續進行曝光曝光時間確定表顯影...2017-10-25 09:31:42
• URE-2000/25型光刻機操作說明以及特性介紹m。對于薄膠（膠厚小于?5?m）?，通過監視器可以同時看?到掩模和硅片對準標記，可直接通過計算機監視器，調節對準工件臺進行?對準。對于厚膠，首先通過...2017-10-24 11:32:15
• 光刻機的簡單介紹大倍率的目鏡和物鏡供用戶組合使用）。CCD對準系統作用是將掩模和樣片的對準標記放大并成像于監視器上。工件臺顧名思義就是放工件的平臺，光刻工藝最主要的...2016-04-18 11:54:16